平面拋光機屬于一種精細(xì)研磨拋光設(shè)備，被磨、拋資料放于平整的研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，批改輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對工作磨擦，來到達(dá)研磨拋光目的。

　　平面拋光機廣泛用于光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種資料的單面研磨拋光。平面拋光機的研磨盤平面度是研磨的基準(zhǔn)，是得到精細(xì)工件平面的確保。

　　在研磨的過程中，研磨盤的平面度會下降，主要原因研磨盤的表里線速度不同，磨損不共同形成。為了堅持平面拋光機的效果，需要定期修整研磨盤。平面拋光機研磨盤的修整辦法有兩個。

　　通過修整機構(gòu)修面后，也可獲得較好的平面度，這種修整的原理與車床原理共同，研磨盤旋轉(zhuǎn)，一個可前后運動的刀在刀桿的帶動對研磨進(jìn)行切削獲得平面，必須到達(dá)±0.001mm生產(chǎn)出來的產(chǎn)品才干更好的確保質(zhì)量。